NLi-2501A紫外线灯销量如何

e.高精度单面：针对各大专院校、企业及科研单位，对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。i线步进式光刻机NSR-SF100,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率3.5KW，型号：NLi-3500AS。NLi-2501A紫外线灯销量如何

实验室用小型UV紫外线照射设备

设备型号：QRU-2161-D

用途：光阻材料固化，粘着剂固化，封装胶固化，油墨胶固化，框胶材料固化。

照射装置构成：由灯箱和电源构成。

光源：汞灯 。

功率：300W，500W，800W.

特长：操作简单，小型化，轻量化，可手持，节能。

製品仕様：使用UV汞灯作为光源，光源主要波长为365nm，照度为30mW/cm2.

反射镜：黄金反射镜

冷却：风冷

照射面积：120×130mm

灯箱尺寸：180(W) × 250(D) × 212(H) mm

电源尺寸：300(W) × 370(D) × 395(H) mm 镇流器紫外线灯power supply型号：Nikon NSR-I12 ，应用于生产线，是6英寸，8英寸 i线光刻胶的曝光，曝光精度准，解析力可达350NM。

b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用。c.投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。投影式曝光分类：扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸；步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。

ORC制作所生产超高压汞灯，英文：super high pressure mercury lamp，点灯时，汞蒸气压力为100～10000KPa，主要发射波长在365nm，395nm，405nm，436nm，累计光量可达数千kJ/mol(52.3kcal/mol)的汞蒸气弧光灯。短弧超高压汞灯是一种装有一对钍钨电极的球形石英玻壳放电灯。玻壳内充少量启动氩气和定量的汞,极间距离0.2～8mm,功率1,000～350,000W,工作时形成“电极稳定型”电弧, 一般采用垂直点灯,强制风冷。短弧超高压汞灯的有效寿命为750～3000h, 。 短弧超高压汞灯是辐射极强的长波紫外光源应用于集成电路光刻制版工艺。高压汞灯能量无限，金属卤素灯照亮你的工业王国。

FX-51S/61SFX-801M2003FX-53S/63S2004Yokohama Plant Yokosuka Branch (now Yokosuka Plant) is built.2005FX-71S/81S2007Tochigi Nikon Precision Co., Ltd. is established.FX-803M/903N2008Sendai Nikon Precision Corporation is established.FX-75S/85S, FPD scanner for 7th and 8th generation plate sizes2009Mito Nikon Precision Corporation is merged with Tochigi Nikon Precision Co., Ltd.Sendai Nikon Precision Corporation is merged with Miyagi Nikon Precision Co., Ltd.FX-101S, FPD scanner for 10th generation super-large plate size2010Sales of FPD lithography systems in Chinese market start.2011FX-66SFX-76S/86S2012Yokosuka Plant is completed.FX-67S, FPD scanner achieving resolution of 2 µm2013Building 530 at Yokohama Plant is closed. Construction of Building 502 is completed.Nikon Precision Singapore Pte Ltd is merged with Nikon Singapore Pte. Ltd.FX-86SH2FX-86S22016FX-68S, FPD scanner achieving resolution of 1.5 µm2018FX-103SH/103S, FPD scanner for Generation 10.5 plate size2021FX-6AS, FPD scanner achieving the highest resolution of 1.2 µmi线步进式光刻机NSR-SF140,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2D。紫外线灯佳能MPAsp-H763曝光机椭圆镜

以专业的紫外线灯，为半导体工业提供照明。NLi-2501A紫外线灯销量如何

紫外线椭圆形反射镜适合用来简化系统设计和安装。椭圆形反射镜可使用两个焦点来消除组件内采用多个聚焦元件的需要。当光源放在焦点时，光源将会重新聚焦到第二焦点。本品提供两种反射镜镀膜供您选择。冷反射镜镀膜可反射可紫外线光，同时可透射近红外光，使其成为冷凝式应用的理想选择。 精密椭圆形反射镜经过精密抛光，可生成准确的非球面。这些反射镜提供改进的热稳性和强大的聚焦效率，以及商用的压膜反射镜。普遍使用的应用包括用于LCD生产的曝光机设备。NLi-2501A紫外线灯销量如何